研判2025！中國光刻機行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈、產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀、競爭格局及未來前景：行業(yè)高度依賴進口，國產(chǎn)光刻機任重道遠[圖]

內(nèi)容概要：光刻機，又稱光刻對準曝光機、掩模對準曝光機、曝光系統(tǒng)或光刻系統(tǒng)等，是光刻工藝乃至整個芯片制造過程中的核心設備。近幾年來，隨著半導體產(chǎn)業(yè)的加速崛起，我國光刻機應用需求迅速激增。同時，我國政府正在加快努力推動半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，光刻機是中央政策指明要重點突破發(fā)展卡脖子技術(shù)及裝備，因此，國內(nèi)光刻機行業(yè)得到了資金支持、稅收優(yōu)惠等一系列國家政策傾斜，持續(xù)助力了國產(chǎn)光刻機生產(chǎn)能力提升，推動了國內(nèi)光刻機市場規(guī)模上漲。據(jù)統(tǒng)計，2023年，我國光刻機產(chǎn)量達124臺，全國光刻機市場規(guī)模已突破至160.87億元。

相關(guān)上市企業(yè)：阿斯麥（0M42）；芯碁微裝（688630）；富創(chuàng)精密（688409）；南大光電（300346）；芯源微（688037）；雅克科技（002409）；新萊應材（300260）；大族激光（002008）；容大感光（300576）；旭光電子（600353）；賽微電子（300456）等

相關(guān)企業(yè)：上海微電子裝備（集團）股份有限公司；天津芯碩精密機械有限公司；北京科益虹源光電技術(shù)有限公司等

關(guān)鍵詞：產(chǎn)業(yè)鏈；全球光刻機市場規(guī)模；國內(nèi)光刻機產(chǎn)量；國內(nèi)光刻機市場規(guī)模；產(chǎn)業(yè)競爭格局；發(fā)展趨勢等

一、行業(yè)概況

光刻機，又稱光刻對準曝光機、掩模對準曝光機、曝光系統(tǒng)或光刻系統(tǒng)等，是光刻工藝乃至整個芯片制造過程中的核心設備。按操作簡便性程度，光刻機可分為手動光刻機、半自動光刻機和全自動光刻機；按曝光方式的不同，可分為接近接觸式光刻機、直寫光刻機和光學投影式光刻機；按光源類型的不同，可分為紫外（UV）光刻機、深紫外（DUV）光刻機和極紫外（EUV）光刻機。

光刻機行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈上游為光刻機生產(chǎn)所需的材料、設備及組件的生產(chǎn)供應環(huán)節(jié)，主要包括光刻膠、電子特氣、涂膠顯影設備等材料及設備，以及激光器、掩膜板、掩膜臺、遮光器等組件產(chǎn)品。產(chǎn)業(yè)鏈中游為光刻機生產(chǎn)制造環(huán)節(jié)，代表廠商有ASML、Canon、大族激光、芯碁微裝、Nikon、上海微電子等。產(chǎn)業(yè)鏈下游為光刻機應用需求領域，主要包括芯片制作、芯片封裝、功率器件制造、LED、MEMS制造等產(chǎn)業(yè)。

二、全球市場

近年來，消費電子領域的需求呈現(xiàn)出相對低迷的態(tài)勢，然而，在這樣的大環(huán)境下，電動汽車、風光儲以及人工智能等嶄新的需求領域卻異軍突起，成為了半導體產(chǎn)業(yè)持續(xù)成長的強勁新動能。在這些新興需求的有力推動下，全球光刻機應用需求不斷增加，市場規(guī)模實現(xiàn)了平穩(wěn)增長。數(shù)據(jù)顯示，2023年，全球光刻機市場規(guī)模已增長至271.3億美元，2024年有望進一步增至315億美元。

從全球光刻機產(chǎn)品銷量結(jié)構(gòu)占比情況來看，目前全球光刻機行業(yè)銷售仍以中低端產(chǎn)品（KrF、i-Line）為主，占比分別為37.9%和33.6%；其次分別為ArFi、ArF dry、EUV，占比分別為15.4%、5.8%及7.3%。這表明不同類型光刻機在市場中的需求存在差異。值得注意的是，近年來，隨著半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，EUV已逐漸成為全球光刻機的重要發(fā)展方向之一，將成為未來全球光刻機行業(yè)發(fā)展的主要推力。

相關(guān)報告：智研咨詢發(fā)布的《中國光刻機產(chǎn)業(yè)發(fā)展態(tài)勢及投資決策建議報告》

三、國內(nèi)市場

光刻機是芯片制造的關(guān)鍵設備之一。近幾年來，隨著半導體產(chǎn)業(yè)的加速崛起，我國光刻機應用需求迅速激增。同時，我國政府正在加快努力推動半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，光刻機是中央政策指明要重點突破發(fā)展卡脖子技術(shù)及裝備，因此，國內(nèi)光刻機行業(yè)得到了資金支持、稅收優(yōu)惠等一系列國家政策傾斜，持續(xù)助力了國產(chǎn)光刻機生產(chǎn)能力提升，推動了國內(nèi)光刻機市場規(guī)模上漲。據(jù)統(tǒng)計，2023年，我國光刻機產(chǎn)量達124臺，全國光刻機市場規(guī)模已突破至160.87億元。

我國光刻機行業(yè)產(chǎn)品供應嚴重依賴ASML光刻機進口。但由于ASML必須獲得荷蘭政府的出口許可證才能出售其先進的DUV工具，因此，實際上我國實體難以獲得這些機器。近年來，在國家政策支持下，國內(nèi)企業(yè)加速研發(fā)突破光刻機制造技術(shù)，目前國產(chǎn)光刻機在90nm及以下工藝節(jié)點方面取得了重要進展。例如，上海微電子自主研發(fā)的600系列光刻機已實現(xiàn)90nm工藝的量產(chǎn)，并正在進行28nm浸沒式光刻機的研發(fā)工作。此外，工信部發(fā)布的《首臺（套）重大技術(shù)裝備推廣應用指導目錄（2024年版）》中，也披露了一臺氟化氬光刻機，其分辨率≤65nm、套刻≤8nm，有望用于28nm芯片產(chǎn)線中的部分工藝。但整體來說，目前我國光刻機行業(yè)國產(chǎn)化率僅為2.5%，整機技術(shù)仍與海外存在差距較大。數(shù)據(jù)顯示，2023年我國進口光刻機數(shù)量高達225臺，進口金額高達87.54億美元，進口金額創(chuàng)下歷史新高，且預計在未來3-5年內(nèi)，我國光刻機仍將主要依賴于進口。

四、競爭格局

從全球競爭市場來看，目前全球光刻機行業(yè)呈現(xiàn)寡頭壟斷格局，荷蘭ASML、日本Canon和日本Nikon三家供應商占據(jù)絕大多數(shù)市場份額。其中，荷蘭ASML市場份額占比82.1%，日本Canon市場份額占比10.2%，日本Nikon市場份額占比7.7%。

從國內(nèi)市場看中，上海微電子是目前中國第一家也是唯一一家光刻機巨頭，具備90nm及以下的芯片制造能力。根據(jù)公開數(shù)據(jù)，上海微電子光刻機出貨量占國內(nèi)市場份額的比例已超過80%。此外，北京華卓精科、北京科益虹源等國內(nèi)企業(yè)也在積極研發(fā)和生產(chǎn)光刻機設備，共同推動國內(nèi)光刻機行業(yè)的發(fā)展。目前，我國14nm光刻機已經(jīng)進入量產(chǎn)階段，而7nm的研發(fā)也在緊鑼密鼓地進行。

上海微電子裝備（集團）股份有限公司（即上海微電子）成立于2002年，簡稱SMEE，主要致力于半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設計、制造、銷售及技術(shù)服務，是中國領先的光刻設備制造商，旗下光刻機產(chǎn)品涵蓋了從幾微米到28納米的多種技術(shù)節(jié)點，廣泛應用于集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等半導體制造領域。

合肥芯碁微電子裝備股份有限公司成立于2015年6月，2021年 4 月在科創(chuàng)板上市，股票簡稱“芯碁微裝”。芯碁微裝主要從事以微納直寫光刻為技術(shù)核心的直接成像設備及直寫光刻設備的研發(fā)、制造、銷售以及相應的維保服務，是國內(nèi)直寫光刻設備龍頭企業(yè)，在直寫光刻設備領域推出了多個產(chǎn)品系列，如MAS系列、RTR系列、NEX系列、FAST系列、DILINE系列等，已廣泛應用在IC、MEMS、生物芯片、分立功率器件、IC掩膜版制造、先進封裝、顯示光刻等環(huán)節(jié)。數(shù)據(jù)顯示，2024年上半年，芯碁微裝營業(yè)收入為7.18億元，同比增長37.05%。

五、發(fā)展趨勢

1、產(chǎn)業(yè)發(fā)展將日益繁榮

光刻機行業(yè)正經(jīng)歷著技術(shù)上的快速進步，以滿足日益增長的半導體制造需求。隨著新能源汽車、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新興產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，芯片需求持續(xù)增長，這將進一步推動光刻機市場的繁榮。EUV光刻機作為當前發(fā)展的熱點，未來有望在精度和效率上實現(xiàn)更大突破。同時，多重圖案化技術(shù)、原子層沉積技術(shù)等新技術(shù)也將得到廣泛應用。這些技術(shù)進步將不僅提升光刻機的性能，還將推動半導體產(chǎn)業(yè)的整體發(fā)展。

2、國產(chǎn)化進程加速

近年來，我國在光刻機領域取得了顯著進展，成功打破了部分技術(shù)封鎖，實現(xiàn)了全流程國產(chǎn)化。這一突破不僅為國內(nèi)高科技產(chǎn)業(yè)的發(fā)展注入了強大動力，還使得我國在全球光刻機市場中的地位逐漸提升。隨著國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展和國產(chǎn)替代政策的推進，國產(chǎn)光刻機有望在市場上占據(jù)更大的份額。同時，國內(nèi)光刻機企業(yè)也在不斷加強技術(shù)創(chuàng)新和資源整合，以提升自身競爭力。

3、行業(yè)競爭不斷加劇

光刻機市場呈現(xiàn)寡頭競爭態(tài)勢，荷蘭ASML、日本Nikon和Canon是主要競爭者。然而，隨著技術(shù)的不斷進步和市場的不斷擴大，競爭格局將發(fā)生變化。ASML在高端和EUV光刻機領域占據(jù)絕對優(yōu)勢，但國內(nèi)光刻機企業(yè)正在通過技術(shù)創(chuàng)新和資源整合縮小與國際先進水平的差距。未來，國內(nèi)光刻機企業(yè)有望在全球市場中占據(jù)一席之地，與國際巨頭形成更加激烈的競爭態(tài)勢。

以上數(shù)據(jù)及信息可參考智研咨詢（www.techappsinsider.com）發(fā)布的《中國光刻機產(chǎn)業(yè)發(fā)展態(tài)勢及投資決策建議報告》。智研咨詢是中國領先產(chǎn)業(yè)咨詢機構(gòu)，提供深度產(chǎn)業(yè)研究報告、商業(yè)計劃書、可行性研究報告及定制服務等一站式產(chǎn)業(yè)咨詢服務。您可以關(guān)注【智研咨詢】公眾號，每天及時掌握更多行業(yè)動態(tài)。