半導(dǎo)體光刻膠種類非常繁多，目前市場上已得到實(shí)際應(yīng)用的主要半導(dǎo)體光刻膠，從曝光波長來分，可分為g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm）和ArF（193nm）等4個(gè)種類。目前分辨率最高的半導(dǎo)體光刻膠為ArF光刻膠。
半導(dǎo)體光刻膠分類
光刻膠種類 | 對應(yīng)曝光波長 | 對應(yīng)IC制程技術(shù)節(jié)點(diǎn) | 注釋 |
g線光刻膠 | 436nm | 0.5µm以上 | 正性膠為主，主要原料為酚醛樹脂和重氮萘醌化合物 |
i線光刻膠 | 365nm | 0.5~0.35µm | |
KrF光刻膠 | 248nm | 0.25~0.15µm | 正性膠和負(fù)性膠都有，主要原料為聚對羥基苯乙烯及其衍生物和光致產(chǎn)酸劑 |
ArF（干法） | 193nm | 65~130nm | 正性膠，主要原料是聚脂環(huán)族丙烯酸酯及其共聚物和光致產(chǎn)酸劑 |
ArF（浸濕法） | 45nm以下 |
數(shù)據(jù)來源：公開資料整理
g線和i線光刻膠是目前市場上使用量最大的光刻膠，但g線和i線光刻膠對應(yīng)的IC制程節(jié)點(diǎn)較為早期。隨著未來功率半導(dǎo)、傳感器、LED市場的持續(xù)擴(kuò)大，i線光刻膠市場將保持持續(xù)增長。隨著精細(xì)化需求的增加，未來一些使用i線光刻膠的應(yīng)用將切換成KrF光刻膠，推動(dòng)KrF光刻膠市場的增長。ArF光刻膠對應(yīng)IC制程節(jié)點(diǎn)最為先進(jìn)，在7nm制程的EUV技術(shù)成熟之前，ArF光刻膠仍將是主流，且隨著雙/多重曝光技術(shù)的使用，光刻膠的使用次數(shù)增加，ArF光刻膠的市場將快速成長。
全球光刻膠的市場份額
數(shù)據(jù)來源：公開資料整理
半導(dǎo)體光刻膠配方比較穩(wěn)定，其專用化學(xué)品的市場規(guī)模與半導(dǎo)體光刻膠的市場規(guī)?；颈３滞壤儎?dòng)。2017年半導(dǎo)體光刻膠需求量較2016年增長7~8%，達(dá)到12億美元的市場規(guī)模。隨著下游應(yīng)用功率半導(dǎo)體、傳感器、存儲(chǔ)器等需求擴(kuò)大，未來光刻膠市場將持續(xù)擴(kuò)大。
全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模
數(shù)據(jù)來源：公開資料整理
相關(guān)報(bào)告：智研咨詢發(fā)布的《2018-2024年中國光刻膠行業(yè)市場分析預(yù)測及發(fā)展趨勢研究報(bào)告》
智研咨詢 - 精品報(bào)告
2025-2031年中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場全景調(diào)研及產(chǎn)業(yè)趨勢研判報(bào)告
《2025-2031年中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場全景調(diào)研及產(chǎn)業(yè)趨勢研判報(bào)告》共十章，包含中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展環(huán)境洞察&SWOT分析，中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場前景及發(fā)展趨勢分析，中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)投資戰(zhàn)略規(guī)劃策略及建議等內(nèi)容。
公眾號(hào)
小程序
微信咨詢
![研判2025！中國環(huán)氧塑封料行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈、市場規(guī)模及重點(diǎn)企業(yè)分析：半導(dǎo)體封裝關(guān)鍵材料，性能迭代與需求擴(kuò)張共驅(qū)發(fā)展[圖]](http://img.chyxx.com/images/2022/0330/ce25a2275c336b52d58303ed80fb7924b3fd1022.png?x-oss-process=style/w320)
![趨勢研判！2025年中國防銹紙行業(yè)發(fā)展歷程、產(chǎn)業(yè)鏈、市場規(guī)模、競爭格局及未來趨勢分析：防銹紙應(yīng)用前景廣闊，帶動(dòng)規(guī)模增至12.2億元[圖]](http://img.chyxx.com/images/2022/0330/b388a599ab8b82a70e79838a8b0d600efa11727f.png?x-oss-process=style/w320)
