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中國及全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模發(fā)展分析[圖]

半導(dǎo)體光刻膠王密 2019-06-06 06:12 來源：智研咨詢

光刻膠是印刷線路板、顯示面板、集成電路等電子元器件的上游，公司生產(chǎn)的光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）和光刻膠樹脂等專用化學(xué)品是體現(xiàn)光刻膠性能的最重要原料，是光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈的源頭。

目前集成電路的集成水平已由原來的微米級水平進(jìn)入納米級水平，為了匹配集成電路的發(fā)展水平，制備超凈高純試劑的純度也由SEMIG1逐漸提升至到SEMIG4級水平，制備光刻膠的分辨率水平由紫外寬譜向g線、i線、KrF、ArF、F2以及更高端方向發(fā)展，同時功能性材料配方的精準(zhǔn)度和效能的穩(wěn)定性也逐漸向更高技術(shù)等級水平發(fā)展。

248nm及以上高端光刻膠為全球市場的主流。據(jù)調(diào)查數(shù)據(jù)顯示，2016年全球半導(dǎo)體用光刻膠市場達(dá)到14.5億美元，較2015年同比增長9.0%。其中，248nm光刻膠占31%，193nm及其它先進(jìn)光刻膠占46%。預(yù)計(jì)2018年全球光刻膠市場將達(dá)到15.7億美元。光刻膠配套試劑方面，2016年全球光刻膠配套試劑市場達(dá)到19.1億美元，較2015年增長6.1%。預(yù)計(jì)2018年全球光刻膠配套試劑市場將達(dá)到20.4億美元。

2012-2018年全球半導(dǎo)體光刻膠及配套試劑市場規(guī)模

數(shù)據(jù)來源：公開資料整理

2012-2018年中國半導(dǎo)體光刻膠及配套試劑市場規(guī)模

數(shù)據(jù)來源：公開資料整理

全球共有9家主要的光刻膠生產(chǎn)企業(yè)。其中，日本占到5家，美國、歐洲、韓國、臺灣地區(qū)各占1家。這9家企業(yè)市場份額超過90%，日本技術(shù)和生產(chǎn)規(guī)模占絕對優(yōu)勢，5家日本企業(yè)市場份額超過70%。

國內(nèi)半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)和國外先進(jìn)技術(shù)差距較大，僅在市場用量最大的G線和I線有產(chǎn)品進(jìn)入下游供應(yīng)鏈。KrF線和ArF線光刻膠核心技術(shù)基本被國外企業(yè)壟斷，國內(nèi)北京科華KrF(248nm)光刻膠目前已經(jīng)通過中芯國際認(rèn)證，其他處于研發(fā)階段，ArF(193nm)光刻膠還在積極研發(fā)中。目前國內(nèi)從事光刻膠研發(fā)和生產(chǎn)的單位主要有北京科華微電子材料有限公司和蘇州瑞紅電子化學(xué)品有限公司、濰坊星泰克微電子材料有限公司。

未來，隨著功率半導(dǎo)、傳感器、LED市場的持續(xù)擴(kuò)大，i線光刻膠市場將保持持續(xù)增長。隨著精細(xì)化需求增加，使用i線光刻膠的應(yīng)用將被KrF光刻膠替代，KrF光刻膠市場需求將不斷增加。ArF光刻膠對應(yīng)IC制程節(jié)點(diǎn)最為先進(jìn)，在7nm制程的EUV技術(shù)成熟之前，ArF光刻膠仍將是主流，隨著雙/多重曝光技術(shù)的使用，光刻膠的使用次數(shù)增加，ArF光刻膠的市場需求將加速擴(kuò)大。

2016-2023年全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模及預(yù)測

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2017年全球半導(dǎo)體光刻膠分類市場占比

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從中國產(chǎn)品市場來看，PCB光刻膠市場份額占比最多，高達(dá)94.4%。LCD光刻膠市場份額占比第二，為2.7%。半導(dǎo)體光刻膠市場份額占比位居第三，僅為1.6%?？傮w看來，中國市場PCB光刻膠占據(jù)大部分市場份額，LCD光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠所占份額非常低。

2017年中國光刻膠分類市場份額占比

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中國半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模占全球比重最大，約為32%

2017年，從全球區(qū)域市場來看，中國半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模占全球比重最大，達(dá)到32%。其次是美洲地區(qū)，其光刻膠市場規(guī)模占全球比重為21%。亞太地區(qū)緊跟其后，光刻膠市場規(guī)模占全球比重為20%。歐洲、日本地區(qū)所占比重較低，大約均為9%。

2017年各地區(qū)半導(dǎo)體光刻膠市場份額占比