2019年中國(guó)濺射靶材市場(chǎng)應(yīng)用結(jié)構(gòu)及企業(yè)格局分析[圖]

濺射靶材游震 2020-05-15 05:34 來(lái)源：智研咨詢

靶材：濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材，特別是高純度濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）工藝，是制備晶圓、面板、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。

濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈基本呈金字塔型分布。產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用等環(huán)節(jié)。其中，靶材制造和濺射鍍膜環(huán)節(jié)是整個(gè)濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

高純靶材產(chǎn)業(yè)鏈

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濺射靶材的制備工藝主要分熔融鑄造法和粉末冶金法兩種。熔融鑄造法的優(yōu)點(diǎn)是靶材雜質(zhì)含量(特別是氣體雜質(zhì)含量) 低, 密度高, 可大型化，缺點(diǎn)是需要后續(xù)加工和熱處理工藝降低其孔隙率，難以做到成分均勻化。粉末冶金法優(yōu)點(diǎn)是靶材成分均勻，節(jié)約原材料，生產(chǎn)效率高；缺點(diǎn)是密度低, 雜質(zhì)含量高。

靶材的基本制備工藝

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為推動(dòng)濺射靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展，增強(qiáng)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新能力和國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力，帶動(dòng)傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)改造和產(chǎn)品升級(jí)換代，進(jìn)一步促進(jìn)國(guó)民經(jīng)濟(jì)持續(xù)、快速、健康發(fā)展，我國(guó)推出了一系列支持濺射靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展的政策。

濺射靶材相關(guān)政策

政策名稱	內(nèi)容
《2014-2016 年新型顯示產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展行動(dòng)計(jì)劃》	產(chǎn)業(yè)鏈提升行動(dòng)：推動(dòng)高純度鉬（Mo）、鋁（Al）、鈦（Ti）、銅（Cu）等金屬靶、氧化銦錫（ITO）靶材、氧化銦鎵鋅（IGZO）靶材的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化
《中國(guó)制造 2025》	1）戰(zhàn)略方針和目標(biāo)：圍繞重點(diǎn)行業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)和新一代信息技術(shù)、智能制造、增材制造、新材料、生物醫(yī)藥等領(lǐng)域創(chuàng)新發(fā)展的重大共性需求；著力破解制約重點(diǎn)產(chǎn)業(yè) 發(fā)展的瓶頸，核心基礎(chǔ)零部件（元器件）、先進(jìn)基礎(chǔ)工藝、關(guān)鍵基礎(chǔ)材料和產(chǎn)業(yè)技術(shù)基礎(chǔ)等工業(yè)基礎(chǔ)能力薄弱，支持核心基礎(chǔ)零部件（元器件）、先進(jìn)基礎(chǔ)工藝、關(guān)鍵基礎(chǔ)材料的首批次或跨領(lǐng)域應(yīng)用。將新一代信息技術(shù)、高端裝備、新材料、生物醫(yī)藥作為戰(zhàn)略重點(diǎn)；（2）戰(zhàn)略任務(wù)和重點(diǎn)：加強(qiáng)“四基”創(chuàng)新能力建設(shè)。強(qiáng)化前瞻性基礎(chǔ)研究，著力解決影響核心基礎(chǔ)零部件（元器件）產(chǎn)品性能和穩(wěn)定性的關(guān)鍵共性技術(shù)。加大基礎(chǔ)專用材料研發(fā)力度，提高專用材料自給保障能力和制備技術(shù)水平；（3）戰(zhàn)略支撐與保障：積極發(fā)揮政策性金融、開(kāi)發(fā)性金融和商業(yè)金融的優(yōu)勢(shì)，加大對(duì)新一代信息技術(shù)、高端裝備、新材料等重點(diǎn)領(lǐng)域的支持力度。
《有色金屬工業(yè)發(fā)展規(guī)劃（2016－2020 年）》	圍繞新一代信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)的集成電路、功能元器件等領(lǐng)域需求，利用先進(jìn)可靠技術(shù)，加快發(fā)展大尺寸硅單晶拋光片、超大規(guī)格高純金屬靶材、高功率微波/激光器件用襯底及封裝材料、紅外探測(cè)及成像材料、真空電子材料等，實(shí)現(xiàn)新一代微電子光電子功能材料、智能傳感材料研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化取得突破，提升高端有色金屬電子材料供給水平
《稀土行業(yè)發(fā) 展規(guī)劃（ 2016-2020年）》	開(kāi)發(fā)超高純稀土金屬及其靶材等深加工產(chǎn)品的制備技術(shù) 和批量化生產(chǎn)裝備，研制超高純及特殊物性稀土化合物材料及規(guī)模制備技術(shù)和裝備，滿足高端電子器件和芯片、功能晶體、集成電路、紅外探測(cè)、燃料電池、特種合金、陶瓷電容器等應(yīng)用需求
《新材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展指南》	加強(qiáng)大尺寸硅材料、大尺寸碳化硅單晶、高純金屬及合金濺射靶材生產(chǎn)技術(shù)研發(fā)，加快高純特種電子氣體研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化，解決極大規(guī)模集成電路材料制約。加快電子化學(xué)品、高純發(fā)光材料、高飽和度光刻膠、超薄液晶玻璃基板等批量生產(chǎn)工藝優(yōu)化，在新型顯示等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)量產(chǎn)應(yīng)用。開(kāi)展稀土摻雜光纖、光纖連接器用高密度陶瓷材料加工技術(shù)研發(fā)，滿足信息通信設(shè)備需求

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目前，全球的靶材制造行業(yè)，特別是高純度的靶材市場(chǎng)，呈現(xiàn)寡頭壟斷格局，主要由幾家美日大企業(yè)把持，如日本的三井礦業(yè)、日礦金屬、日本東曹、住友化學(xué)、日本愛(ài)發(fā)科，以及美國(guó)霍尼韋爾、普萊克斯等。

靶材市場(chǎng)主要企業(yè)份額

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國(guó)內(nèi)靶材行業(yè)龍頭包括有研新材、隆華科技、江豐電子以及阿石創(chuàng)。2018 年底，進(jìn)口靶材免稅結(jié)束，國(guó)家實(shí)行對(duì)內(nèi)補(bǔ)貼，對(duì)外征稅的模式，拉開(kāi)靶材行業(yè)國(guó)產(chǎn)替代的大幕。有研新材、隆華科技、江豐電子、阿石創(chuàng)等靶材龍頭企業(yè)，在各自的細(xì)分領(lǐng)域進(jìn)行技術(shù)突破進(jìn)而形成自己的核心優(yōu)勢(shì)，使國(guó)產(chǎn)替代成為可能

2019年國(guó)內(nèi)靶材龍頭企業(yè)收入

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濺射靶材主要應(yīng)用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。其中，在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中，半導(dǎo)體芯片對(duì)濺射靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn)，需要掌握生產(chǎn)過(guò)程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過(guò)長(zhǎng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品。因此，半導(dǎo)體芯片對(duì)濺射靶材的要求是最高的，價(jià)格也最為昂貴。

濺射靶材應(yīng)用結(jié)構(gòu)

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一、顯示面板靶材

顯示屏玻璃基板尺寸不斷增大，預(yù)計(jì)帶來(lái)靶材需求增加。隨著各時(shí)代顯示屏玻璃基板以及一些設(shè)備顯示屏的尺寸逐漸增大，顯示面板用濺射靶材的需求預(yù)計(jì)會(huì)不斷增大。

2014年~2019年顯示面板用靶材市場(chǎng)規(guī)模

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二、半導(dǎo)體用濺射靶材

半導(dǎo)體芯片行業(yè)是金屬濺射靶材的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一，也是對(duì)靶材的成分、組織和性能要求最高的領(lǐng)域。具體來(lái)講，半導(dǎo)體芯片的制作過(guò)程可分為硅片制造、晶圓制造和芯片封裝等三大環(huán)節(jié)，其中，在晶圓制造和芯片封裝這兩個(gè)環(huán)節(jié)中都需要用到金屬濺射靶材。

2014年-2018年，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體用濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模

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三、太陽(yáng)能電池用濺射靶材

我國(guó)太陽(yáng)能電池用濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模從4.6億元增至23.3億元，每年增速維持在30%以上。未來(lái)伴隨光伏行業(yè)的增長(zhǎng)以及薄膜電池產(chǎn)量的提升，太陽(yáng)能用濺射靶材也有望保持較高速度的增長(zhǎng)。

2014年~2018年太陽(yáng)能電池用濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模

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四、磁記錄靶材

2018 年濺射靶材市場(chǎng)中，磁記錄市場(chǎng)規(guī)模約 28.6%，僅次于顯示市場(chǎng)，同比增速為 11%；磁記錄靶材市場(chǎng)目前主要被東曹、賀利氏等海外靶材企業(yè)占據(jù)。國(guó)內(nèi)生產(chǎn)磁記錄靶材的企業(yè)數(shù)量和產(chǎn)能有限，國(guó)產(chǎn)替代化具有較為廣闊的存量空間。

2018-2020 年國(guó)內(nèi)磁記錄靶材市場(chǎng)預(yù)測(cè)

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隨著消費(fèi)電子等終端應(yīng)用市場(chǎng)的飛速發(fā)展，高純?yōu)R射靶材的市場(chǎng)規(guī)模日益擴(kuò)大，呈現(xiàn)高速增長(zhǎng)的勢(shì)頭。靶材所屬的新材料領(lǐng)域，目前已經(jīng)得到了國(guó)家的高度重視和大力支持。在鍍膜市場(chǎng)需求增多、國(guó)家扶持力度加大的情況下，一批靶材企業(yè)將會(huì)迅速成長(zhǎng)起來(lái)，成為靶材行業(yè)的引領(lǐng)者，帶動(dòng)行業(yè)的發(fā)展，創(chuàng)造可觀的經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益。

相關(guān)報(bào)告：智研咨詢發(fā)布的《2020-2026年中國(guó)濺射靶材行業(yè)市場(chǎng)經(jīng)營(yíng)管理及競(jìng)爭(zhēng)策略建議報(bào)告》

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