光刻機
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半導體設備行業(yè)快報：65NM ARF光刻機官宣 國產(chǎn)光刻機行則將至
65nm ArF 光刻機官宣，參數(shù)對標ASML1460K 及Nikon S322F。為促進首臺（套）重大技術(shù)裝備創(chuàng)新發(fā)展和推廣應用，加強產(chǎn)業(yè)、財政、金融、科技等國家支持政策的協(xié)同，工業(yè)和信息化部印發(fā)《首臺（套）重大技術(shù)裝備推廣應用指導目錄（2024 年版）》。
財經(jīng)研究
2024-09-19
光刻機行業(yè)：國之重器 路雖遠行則將至
光刻機被譽為半導體工業(yè)皇冠上的明珠，光刻是半導體芯片生產(chǎn)中最復雜、關(guān)鍵一環(huán)。光刻機是芯片制造流程中的核心設備，其光刻的工藝水平直接決定芯片的制程、性能，被譽為半導體工業(yè)皇冠上的明珠。光刻是半導體芯片生產(chǎn)中最復雜、關(guān)鍵步驟，耗時長、成本高。光刻機原理類似相機照相，發(fā)出光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后發(fā)生性質(zhì)變化，使圖形復印到薄片上，使薄片具電子線路圖作用。其中分辨率直接決定制程，是最重要的指標；套刻精度影響良率；生產(chǎn)效率影響產(chǎn)能及經(jīng)濟性。
財經(jīng)研究
2024-08-23
光刻機行業(yè)深度研究報告：核心“卡脖子”設備 國產(chǎn)替代蓄勢待發(fā)
光刻機是半導體制造過程中價值量和技術(shù)壁壘最高的設備之一。全球光刻機市場規(guī)模超230 億美元，ASML 處于絕對領(lǐng)先，國內(nèi)市場規(guī)模超200 億元，但是國產(chǎn)化率僅2.5%。目前半導體制造工藝節(jié)點縮小至5nm 及以下，曝光波長逐漸縮短至13.5nm，光刻技術(shù)逐步完善成熟，但是國內(nèi)光刻機仍明顯落后ASML。
財經(jīng)研究
2023-10-23
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